TSMC宣布N4P高性能工艺 扩展了5nm平台的性能、能效和密度领先地位

TSMC宣布推出新的制程工艺——N4P工艺，这是5纳米技术平台以性能为重点的增强。N4P加入了业界最先进和最广泛的前沿技术流程组合。凭借N5、N4、N3和最新添加的 N4P，台积电客户将在其产品的功率、性能、面积和成本方面拥有多种引人注目的选择。

作为台积电5nm家族的第三次重大改进，N4P将比原始N5技术提供11%的性能提升，比N4提升6%。与N5相比，N4P 还将提供22%的电源效率提升以及6%的晶体管密度提升。此外，N4P通过减少掩模数量降低了工艺复杂性并缩短了晶圆周期时间。台积电称，N4P工艺是为客户5nm工艺平台产品升级准备的，不但可以最大化挖掘投资价值，还可以更快、更高效地升级N5工艺产品。首批基于N4P技术的产品有望在2022年下半年流片。